Přehled produktu
Hexafluorethan (C₂F₆) je plně fluorovaná nasycená fluorouhlovodíková sloučenina, která se za standardních podmínek jeví jako bezbarvý, nehořlavý a ne{1}}toxický plyn bez zápachu. Jako kritický elektronický speciální plyn je hexafluorethan ceněn pro svou výjimečnou chemickou stabilitu a vynikající selektivitu leptání, díky čemuž je nepostradatelný při výrobě polovodičů a mikroelektroniky. Náš vysoce-hexafluorethan, vyrobený pomocí přísných čisticích procesů, splňuje náročné požadavky pokročilých elektronických aplikací, kde je prvořadá ultra-vysoká čistota a minimum nečistot.
Základní informace
| Č. CAS | 76-16-4 |
| číslo OSN | UN2193 (hexafluorethan, stlačený) |
| Molekulární vzorec | C₂F₆ |
| Klasifikace nebezpečnosti | 2.2 (Ne-hořlavý, ne-toxický plyn) |
Klíčové atributy a parametry
| Čistota | Větší nebo rovno 99,999 % (standard třídy 5N), přičemž jsou k dispozici vyšší třídy. |
| Kritické nečistoty (typické specifikace) |
kyslík (O₂) Dusík (N2): 2 ppm nebo méně Vlhkost (H2O): 1 ppm nebo méně Celkové ionty kovů: méně než nebo rovno 10 ppb |
| Bod varu | -78,2 stupně |
| Kritická teplota | 19,7 stupně |
| Tlak par (při 21,1 stupně) | 3,33 MPa abs |
| Hustota (plyn, 25 stupňů) | ~7,85 kg/m³ (přibližně . 5x hustší než vzduch) |
Vlastnosti a výhody
Vysoká chemická a plazmová stabilita
Silné vazby C-F poskytují stabilní, řízený rozklad v plazmovém prostředí, generují aktivní fluorové radikály pro přesné leptání.
Vynikající selektivita leptání
Nabízí vysoce laditelné poměry rychlosti leptání mezi křemíkem, oxidem křemičitým, nitridem křemíku a fotorezistem, což umožňuje sofistikovaný přenos vzorů pro pokročilé uzly.
Vynikající dielektrické a izolační vlastnosti
Jeho vysoká dielektrická pevnost a tepelná stabilita jej činí vhodným pro specializované aplikace elektrické izolace.
Kompatibilita procesů a široké okno
Osvědčená kompatibilita se standardními nástroji pro výrobu polovodičů (např. ICP, CCP leptače), nabízející široké a stabilní procesní okno pro výrobce.
Funkční charakteristiky
V procesech založených na plazmě- se hexafluorethan rozkládá za vzniku fluorových radikálů (F*) a různých CFx iontů. To mu umožňuje fungovat především jako:
1. A Precision Etchant: Umožňuje anizotropní leptání křemíku, polysilikonu a různých dielektrických filmů s vysokou selektivitou a kontrolou profilu.
2. Čisticí prostředek na komory: Účinně odstraňuje zbytky na bázi křemíku z chemické depozice z plynné fáze (CVD) a leptací vnitřky komory, aniž by došlo k poškození součástí komory.
3. Nosný/ředicí plyn: Může být použit k modulaci a stabilizaci plazmové chemie ve směsích plynů.
Primární aplikační pole
Výroba polovodičů
Klíčové leptadlo pro tvarování polysilikonových hradel, mělkou izolaci příkopů (STI) a dielektrikum (SiO₂, nízké -k) via/příkopové leptání. Nezbytné pro čištění komor-na místě.
Výroba plochých displejů (FPD).
Používá se při vzorování polí tenkých{0}}tranzistorů (TFT) a mikro-výrobě OLED displejů.
Fotovoltaika
Texturování a vzorování při výrobě solárních článků na -křemíkové a tenké{1}}vrstvě.
Jiné aplikace
Používá se jako chladivo (R116), izolační plyn v elektrických zařízeních a vyrovnávací plyn v laserech.
Případ spolupráce se zákazníkem
Přední slévárna polovodičů s námi spolupracovala na optimalizaci procesu leptání kontaktních otvorů pro 28nm logický čip, který čelil problémům s drsností bočních stěn a rovnoměrností leptání. Vyvinuli jsme přizpůsobenou směs plynů na bázi hexafluorethanu- (s O₂ a Ar) přizpůsobenou jejich specifickému leptacímu nástroji (Applied Materials Centura). Dodali jsme 99,9995 % ultra-vysoko{6}}čistoty hexafluorethanu s kovovými nečistotami<5 ppb and implemented a real-time gas monitoring system. This collaboration resulted in a 40% reduction in sidewall roughness (from 5.2nm to 3.1nm), improved within-wafer uniformity from ±8% to ±4%, and enhanced critical dimension control by 25%. The successful gas formulation was adopted as their standard process, contributing to a 3.2% increase in production yield and establishing a joint development framework for sub-10nm node etch solutions. This case highlights how our high-purity hexafluoroethane and application expertise directly enable advanced manufacturing.
FAQ
Populární Tagy: hexafluorethan, Čína výrobci hexafluorethanu, dodavatelé, továrna
